專業(yè)解答安徽省企業(yè)專利申請中疑問：對于專利侵權(quán)訴訟中侵權(quán)判定原則的分析

　　什么是專利侵權(quán)，專利侵權(quán)的判定原則是什么，我們又該如何應(yīng)對呢?下面帶著一系列疑問我們來專業(yè)了解一下：

　　在專利侵權(quán)的判定中，主要遵從整體覆蓋原則、等同原則以及禁止反悔原則三條。(1)整體覆蓋，是指被控侵權(quán)物將專利權(quán)利要求中記載的技術(shù)方案的必要技術(shù)特征全部再現(xiàn)，被控侵權(quán)物與專利獨立權(quán)利要求中記載的全部必要技術(shù)特征一一對應(yīng)并且相同;(2)等同原則，是指被控侵權(quán)物中有一個或多個技術(shù)特征與專利獨立權(quán)利要求保護的技術(shù)特征相比是相等同的技術(shù)特征。這種情況下，應(yīng)當(dāng)認定被控侵權(quán)物落入了專利權(quán)的保護范圍。

　　在孫希賢與成都青青草綠化工程有限公司侵害發(fā)明專利權(quán)糾紛一案中，孫希賢擁有專利CN102461432A ，名稱為“有水位高度調(diào)節(jié)功能的插槽連接式綠化磚”的發(fā)明專利，被控侵權(quán)產(chǎn)品與其涉案專利相比，區(qū)別技術(shù)特征在于：(1)涉案專利權(quán)利要求1中公開了所述種植展示面為平面或弧形面，所述的種植展示面至少有一個向內(nèi)凹的種植空間，而在被控產(chǎn)品中與涉案專利的對應(yīng)位置處僅設(shè)置有一傾斜頂面;(2)涉案專利權(quán)利要求1中公開了所述的土壤容納空腔的斜面上至少有一個或一組水位高度調(diào)節(jié)溢水孔，所述的水位高度調(diào)節(jié)溢水孔是底部即將貫通的盲孔，而在被控產(chǎn)品中與涉案專利的對應(yīng)位置處設(shè)置水位高度溢水孔。

　　涉案專利的權(quán)利要求1中公開了通過打通水位高度調(diào)節(jié)溢水孔即盲孔達到調(diào)節(jié)供水水位，而被控侵權(quán)產(chǎn)品中并無“即將貫通的盲孔”這一技術(shù)特征，達不到實現(xiàn)自由選擇水位高度的技術(shù)效果。另外，涉案專利權(quán)利要求1中公開了“種植空間至少由傾斜頂面和兩個豎直支撐壁面構(gòu)成”，被訴侵權(quán)產(chǎn)品僅設(shè)置有傾斜頂面，兩者相比對應(yīng)技術(shù)特征并不等同。

　　因此，本案中終審法院認定，涉案專利與被訴侵權(quán)產(chǎn)品相比，由區(qū)別技術(shù)特征(1)可知，被訴侵權(quán)產(chǎn)品與涉案專利權(quán)利要求所限定的技術(shù)特征不相同也不等同，并且由區(qū)別技術(shù)特征(2)可知，被訴侵權(quán)產(chǎn)品缺少涉案專利部分技術(shù)特征，被訴侵權(quán)產(chǎn)品沒有落入涉案專利保護范圍。

　　根據(jù)《*高人民法院關(guān)于審理侵犯專利權(quán)糾紛案件應(yīng)用法律若干問題的解釋》第七條規(guī)定，人民法院判定被訴侵權(quán)技術(shù)方案是否落入專利權(quán)的保護范圍，一般應(yīng)當(dāng)對專利技術(shù)方案以及被訴侵權(quán)技術(shù)方案進行技術(shù)特征的分解，并在此基礎(chǔ)上進行相應(yīng)技術(shù)特征的對比。被訴侵權(quán)技術(shù)方案的技術(shù)特征與權(quán)利要求記載的全部技術(shù)特征相比，缺少權(quán)利要求記載的一個以上的技術(shù)特征，或者有一個以上技術(shù)特征不相同也不等同的，人民法院應(yīng)當(dāng)認定其沒有落入專利權(quán)的保護范圍。

　　在專利侵權(quán)判定時，只有當(dāng)被控侵權(quán)物包含了獨立權(quán)利要求中記載的全部必要技術(shù)特征或與其等同的技術(shù)特征，才能認定侵權(quán)，否則不構(gòu)成侵權(quán)。

　　在專利侵權(quán)判定中，當(dāng)適用整體覆蓋原則判定被控侵權(quán)物(產(chǎn)品或方法)不構(gòu)成侵犯專利權(quán)的情況下，應(yīng)當(dāng)適用等同原則進行侵權(quán)判定。

　　全一摸一樣地照搬他人發(fā)明較為少見,而更多的是行為人將專利權(quán)利要求的部分必要技術(shù)特征稍作替換得出實質(zhì)性等同的技術(shù),如果采用整體覆蓋原則來判定此類侵權(quán)行為則顯然支撐不足,因為整體覆蓋原則強調(diào)專利權(quán)利要求中的每一項技術(shù)特征以字面上一一對應(yīng)并全相同的方式體現(xiàn)在被控侵權(quán)的產(chǎn)品或方法之中,是一種全的字面侵權(quán)。運用等同原則,若權(quán)利要求中的技術(shù)特征以實質(zhì)性等同的方式體現(xiàn)在被控侵權(quán)的產(chǎn)品或方法中,也認定為專利侵權(quán),對等同原則進一步分析和研究在專利侵權(quán)認定中具有重要意義。等同原則是判定專利侵權(quán)的重要原則,

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